紅外光譜(IR):紅外光譜可以準確地記錄高嶺石中-OH伸縮振動峰的位置、形狀、強度及其變化。羥基的伸縮振動是羥基外部環境的靈敏指示劑。在高嶺石的紅外光譜的高頻區域(3000〜4000cm-1)，存在四個伸縮振動峰，它們分別位于3695cm-1、3668cm-1、3652cm-1和3620cm-1，其中3695cm-1、3668cm-1、3652cm-1,這三個峰屬于高嶺石層間表面的羥基(稱為內表面羥基)振動峰，當羥基的外部環境受到擾動時，-OH伸縮振動峰的位置、形狀及強度等會發生相應的變化。高嶺石的內羥基位于硅氧四面體和鋁氧八面體之間，其峰值位于3620.5cm-1。由于內羥基不可能與插入的客體分子接觸，因此，內羥基的伸縮振動峰不會由于插入反應而發生變化，而位于高嶺石層間表面的羥基，即內表面羥基則較容易受到插入分子的影響。當不同的有機分子插入高嶺石層間時，由于對高嶺石內表面羥基的影響不同，其內表面羥基的伸縮振動峰也發生不同的變化。而內羥基則不發生相應的變化。因此，在比較有機分子插入高嶺石層間導致羥基振動峰強度的變化時，通常是以3620cm-1峰的強度為標準。

水合肼、脲、二甲基亞砜、甲酰胺、二甲基甲酰胺、乙酰胺、乙酸鉀等有機分子插入高嶺石層間，都會對高嶺石的內表面羥基產生一定的影響。但由于它們與高嶺石內表面羥基發生作用的官能團不一樣，因而對高嶺石以及高嶺土生產線內表面羥基紅外光譜產生的影響也不一樣。例如，甲酰胺、乙酰胺等分子不僅可以作為質子接受體，接受內表面羥基給出的質子，而形成氫鍵，而且還可以作為質子給予體，給出質子，與四面體片上的氧原子形成氫鍵。

張生輝等(2006)利用熔融狀態下乙酰胺對高嶺石進行插層，制備了高嶺石/乙酰胺插層復合物。紅外分析表明，插層作用使得高嶺石內表面羥基伸縮振動峰由3651cm-1移動至3647cm-1處，變形振動峰由911cm-1移動至907cm-1處;乙酰胺3211cm-1和3390cm-1處―NH2基伸縮振動峰消失，并且在3478cm-1處產生一個新的振動峰，這些表明原高嶺石層間氫鍵的損失及與乙酰胺分子之間氫鍵的形成。高嶺石內羥基的吸收峰由3616cm-1移動至3611cm-1處，以及其硅氧面的骨架振動峰變化表明乙酰胺的甲基中CH嵌入高嶺石的復三方空穴中。

-END-